Przejdź do treści

Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

Maria Angela Pampillon Arce

Wydawca: Springer

Druk
EN
2018
Poradniki

Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets This thesis describes the fabrication of metal-insulator-semiconductor (MIS) structures using very high permittivity dielectrics (based on rare earths) grown by high-pressure sputtering from metallic targets. Autor: Maria Angela Pampillon Arce Wydawnictwo: Springer Rok wydania: 2018 Okładka: miękka Liczba stron: 164 Wymiary: 23.5 x 15.5 cm Ilustracje: 6 Illustrations, color; 110 Illustrations, black and white Język: angielski ISBN: 9783319882840

Aktualne ceny

Brak informacji o cenach

Historia cen (ostatnie 30 dni)

Brak historii cen